这一周我读了基于反射仪的密度剖面反演以及位移控制的一篇文章，主要收获为了解了基于反射仪进行位移控制的关键要点
Compensation of the pick-up fluxes on the plasma position control system when resonant magnetic perturbations are applied in J-TEXT
本文主要介绍了在J-TEXT装置上投入RMP线圈对等离子体位移的影响 以下几点特别有用：
1.在m=1模式下，会对水平位移有影响，系数大概是0.0434
2.在m=2模式下，会对垂直位移产生影响
对于反射仪课题测试步骤：
1.首先投入RMP,m=1模式下，测量等离子体水平位移与反射仪测量的水平位移
2.不投入RMP,通过罗氏线圈测量位移与反射仪测量位移比较
3.查看离线密度剖面反演，与反射仪计算的密度剖面对比
装置运行电磁环境复杂，发展系统需全面考虑
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